平板显示产业化，兴起于日本、发展于台湾、兴盛于韩国，中国作为全球最大的电子消费类的市场，“缺芯少屏”一直是制约国内相关产业的瓶颈。

　　近年来，国家层面极为重视相关行业发展，平板显示行业已被列入国家战略产业规划，不断加大投资力度。

　　2017年，平板显示行业投资已逾4000亿，其中约有90%金额用于购买国外生产设备。政府也出台一系列产业扶持政策，希望推动面板生产设备及材料的国产化步伐。

　　但目前现状是，由于国内显示产业发展晚于日韩台企业，国外的技术垄断与封锁等原因，造成面板生产的前、中段生产设备主要仍是由国外企业垄断，国内设备企业即使在具备技术能力、成本优势、完善的服务的前提下，仍会因为所谓“业绩”等原因被拒之门外，进而丧失展示自身实力的机会。

　　基于这样的现状，国内面板厂家不得不继续以天文数字般的价格采购进口设备，且核心应用技术、后续服务仍受制于人，长期陷于被动局面。

　　晶洲装备作为一家成立于2011年，主要面向太阳能光伏、平板显示、半导体行业提供湿制程设备的国产化厂商。公司自成立之初，就以设备国产化为己任，在平板显示行业提前布局并实施研发，卧薪尝胆，从零开始投入平板显示行业。

　　2012年即迎来突破——首台蚀刻脱膜设备顺利通过客户验收，自此宣告晶洲正式踏入平板显示领域。

　　2013年，国产第一台G4.5 TFT湿法刻蚀设备交付客户并通过验收，各项技术指标不亚于同类进口设备，宣告晶洲打破了此领域国外设备垄断的神线 AMOLED湿法刻蚀设备订单。

　　在该设备研发、制造过程中，晶洲遇到了前所未有的难度，由于设备体积庞大，工艺精度要求非常高，晶洲的工程师们又一次站在了起点上，从零开始，经过艰苦鏖战，最终向客户交出了满意的答卷。

　　于2015年初，该设备顺利实现量产并获得客户充分认可。自此，晶洲正式宣告具备了高端中世代显示面板湿制程设备研发、制造能力，迄今为止仍然是国产装备中唯一的存在。

　　同年，晶洲为国内某客户定制了G4.5镀膜前清洗机，并成功推向市场，正式向行业宣告晶洲具备设计、生产高精密清洗机能力。

　　2016年，晶洲在平板显示高端清洗设备领域全面突破，其中最具代表性的案例——G5.5蒸镀前清洗机在本年度顺利下线。

　　由于AMOLED蒸镀工艺对玻璃表面洁净度要求极高，晶洲创新性的研发了超精密清洗系统，融合了晶洲针对AMOLED显示面板所有最前沿、最尖端的清洗技术。该设备于2017年上半年顺利量产，技术指标完全达到了客户的要求。该项目的成功再次巩固了晶洲作为国产设备商在此领域的领先地位。

　　经过多年沉淀、积累，晶洲在平板显示湿法装备领域技术日渐成熟，受到京东方、国显光电、固安云谷、华星光电、天马、柔宇科技等诸多业内巨头的关注，先后建立合作。

　　G6湿法刻蚀设备，湿法剥离设备，G4.5 湿法刻蚀设备，G4.5高精密清洗设备等项目相继展开，目前首台国产G6湿法刻蚀设备即将交付客户，必定将再次打破国外垄断，是平板显示领域湿法装备国产化的新高度。

　　晶洲的产品在技术上已经具备与国外同类产品抗衡的能力，同时在交期、成本、服务上具有绝对优势。晶洲，需要国内客户更多的关注，更需要国内客户多给平等的机会，让我们可以为广大国内客户提供最具性价比的技术和服务。

　　我们是一家集高端湿制程设备（如：清洗、刻蚀、剥膜、显影等）的研发、制造、销售、服务于一体的综合性高新技术企业，产品主要应用于太阳能光伏、平板显示、半导体、石墨烯等行业。

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